2026-07-29 23:39:07
掩模版是芯片光刻环节的核心“母版”，它的品质直接左右整片晶圆的生产良率。细微的图形缺陷，都有可能造成整批晶圆全部报废。亚汇网获悉，该设备可分辨精细图形、规避辅助图形干扰，快速检出图形缺损、表面污染物等各类问题，同时适配掩模制造厂、晶圆厂两大场景，满足全流程品质管控需求。官方表示，自2025年初，可完整覆盖90nm及以上的初代机型Raptor-500交付落地后，经过一年多现场产线迭代打磨，Raptor-600完成全方位技术升级：自研高分辨率透反射双光路紫外成像系统，同步捕捉各类影响掩模及光刻良率缺陷；搭载纳米级高精度运动平台，保障检测定位微米级稳定精度；配套超大图像并行计算引擎，缺陷识别速度与适配性大幅提升。广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，亚汇网所有文章均包含本声明。
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