2026-09-08 12:39:04
英特尔目前拥有两台ASMLTwinscanEXE:5000原型机及至少一台EXE:5200B量产机型。2025年2月，英特尔使用High-NAEUV设备累计处理了约3万片晶圆；至2026年9月，这一数字已超过百万片。根据ASML在2026年4月第一季度财报中披露的数据，当时全球所有High-NAEUV系统累计处理的晶圆已超过50万片，可用率超过80%。这意味着英特尔一家的处理量已超过行业其他所有用户的总和。今年早些时候，英特尔已通过其Intel18A工艺节点完成了High-NAEUV的验证。该技术目前正用于生产PantherLake系列酷睿Ultra处理器。今年7月，ASML宣布英特尔成为全球首家实现High-NAEUV逻辑芯片大规模出货的企业，Intel18A部分工艺层已完成High-NAEUV双重认证，良率已达到现有NXEEUV平台水平。不过，High-NAEUV目前仍面临光罩（掩模版）尺寸带来的限制。为突破限制，英特尔正牵头推动行业转向更大的6×12英寸光罩。该尺寸可在一次曝光中实现26×33mm的完整视场。然而，这一转变涉及整个光罩生态系统的重大变更，包括光罩空白基板、沉积、刻蚀、检测、计量、清洗、光罩保护膜、光罩写入设备以及处理系统等环节均需调整。High-NAEUV也需修改或重新设计以适配更大尺寸的光罩。亚汇网注：按照ASML的路线图，在2033年前后及之后推出的High-NAEUV设备仍以6×6英寸光罩和拼接方案为设计基础。目前，ASML和英特尔均未确认现有或计划中的High-NAEUV光刻机是否能够改造以支持6×12英寸光罩。
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